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多弧+磁控溅射镀膜机

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多弧+磁控设备

产品时间:2021-12-22 16:38:07

简要描述:

一、 真空技术指标:(洁净、冷态、空载)1. 极限真空:优于5×10-4Pa;2. 抽速:从大气到5×10-3Pa,抽气时间小于35分钟;3. 压升率:小于0.5Pa/小时。二、设备型号:BC-1612ASI技术参数(以下参数可根...

详细介绍

一、  真空技术指标:(洁净、冷态、空载)

1.       极限真空:优于5×10-4Pa;

2.       抽速:从大气到5×10-3Pa,抽气时间小于35分钟;

3.       压升率:小于0.5Pa/小时。

二、设备型号:BC-1612ASI

技术参数(以下参数可根据用户需求定制)

真空室结构:带水冷立式前开门,机械泵+罗茨泵+分子泵抽气机组。

真空室尺寸:内部尺寸1600㎜×1250㎜

真空室材质:全部采用不锈钢材料焊接。

真空室加热:室内温度≤350℃

公自转转架:24个自转轴,直径∮140mm。

溅射靶系统:  4对,含中频电源

多弧靶系统:4套,含电源

条形离子源:1套,含电源

控制方式:   PLC全自动和半自动控制模式,包含数据存储及报警系统。

占地面积:长6000㎜ ×宽3500㎜×高2600㎜

总功率KW: 380V  120KW

多弧+磁控设备4.jpg

 


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